激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

• 作者: 万承华 张沛 朱广志 朱晓 朱长虹 李跃松 黄河
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 330-332
• 页数: 3页
• 分类号: TQ034
• 字数: 2325字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2007.03.030

摘要

为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱长虹	华中科技大学激光工程研究院	68	494	13.0	18.0
2	朱广志	华中科技大学激光工程研究院	19	128	6.0	10.0
3	黄河	华中科技大学激光工程研究院	34	352	9.0	17.0
4	朱晓	华中科技大学激光工程研究院	35	327	9.0	17.0
5	张沛		2	5	1.0	2.0
6	李跃松		2	5	1.0	2.0
7	万承华		1	5	1.0	1.0