激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用

• 作者: 付婉霞 周贺 张伟 徐智俊 王博 王磊 阮毅松 陈小英 马永生
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: TFT-LCD 激光化学气相沉积法 缺陷维修 W(CO)6 电阻率
• 年，卷（期）: 2019,（8）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 755-763
• 页数: 9页
• 分类号: TN873.93
• 字数: 5552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20193408.0755

摘要

为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤 、钨薄膜电阻率的影响.在空气氛围下,波长为351 nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻.控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大.通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解.