激光烧蚀制备按尺寸自然分离的纳米Si晶粒

• 作者: 傅广生 卢丽芳 王英龙 褚立志
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 纳米Si晶粒 激光烧蚀 平均尺寸
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 555-558
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1726字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.04.022

摘要

提出了一种将激光烧蚀制备的纳米Si晶粒按尺寸大小进行分离的新方法.在10 Pa高纯环境气体Ar下,采用波长为308 nm的XeCl准分子激光器,固定激光单脉冲能量密度为3 J/cm2,激光烧蚀电阻率为3000 Ω·cm的高纯单晶Si靶,在等离子羽轴线正下方2.0 cm处平行放置一系列单晶Si或玻璃衬底来收集纳米Si晶粒.拉曼(Raman)谱测量结果显示,在距靶平行距离为0.5～2.8 cm范围内,所制备的薄膜中均有纳米Si晶粒形成.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的表面形貌,对图中的纳米Si晶粒统计分析表明,随着离靶平行距离的增大,所形成的纳米Si晶粒的平均尺寸逐渐减小.从烧蚀动力学角度对实验结果进行了定性解释,因为不同尺寸的纳米Si晶粒获得了不同的水平速度,所以在重力作用下实现了尺寸的自然分离.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
3	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
4	卢丽芳	河北大学物理科学与技术学院	4	28	4.0	4.0