精密U薄膜的制备及表征

• 作者: 任大鹏 吕学超 姜桂芬 郎定木 黄文莉
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: U薄膜 机械减薄 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 55-57
• 页数: 3页
• 分类号: TB43

摘要

采用机械磨抛、表面轮廓仪以及AES分析等方法，制备并表征了精密U薄膜。结果表明，获得了厚度从约50μm深减薄到约10μm厚的U薄膜，该薄膜的表面粗糙度Ra、Rq均低于50nm，但峰谷极差Tir大于100nm。薄膜越薄，Ra，Rq，Tir和厚度不一致性均有所增大，且薄膜的厚度一致性随着取样长度的增加有所减小。对实验结果进行了讨论。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郎定木	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	40	144	8.0	9.0
2	任大鹏	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	23	100	6.0	9.0
3	吕学超	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	29	121	6.0	9.0
4	姜桂芬	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	8	12	2.0	2.0
5	黄文莉	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	3	9	2.0	3.0