硬盘巨磁电阻磁头的超精密抛光工艺

• 作者: 申儒林
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 自由磨粒抛光 纳米研磨 磁头 去除率
• 年，卷（期）: 2007,（18）
• 所属期刊栏目: 科学基金
• 页码范围: 2241-2245
• 页数: 5页
• 分类号: TG580.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132x.2007.18.024

摘要

硬盘巨磁电阻磁头的抛光可分为自由磨粒抛光和纳米研磨,在自由磨粒抛光中,精确控制载荷和金刚石磨粒的粒径,可以避免脆性去除实现延性去除.通过控制抛光过程中的抛光盘表面粗糙度、金刚石粒径大小及粒径分布和载荷等进行滚动磨粒和滑动磨粒比例的调控,获得较好的磁头表面质量和较高的材料去除率.在自由磨粒抛光阶段,先采用铅磨盘抛光,然后用锡磨盘抛光,以纳米研磨作为最后一道抛光工序对磁头表面进行研磨,获得了亚纳米级粗糙度的磁头表面.用两种工艺制作的纳米研磨盘进行加工,分别获得了0.37nm和0.8nm的磁头表面粗糙度,去除率分别为5.3nm/min和3.9nm/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申儒林		26	101	6.0	8.0