3-巯丙基三甲氧基硅烷自组装膜的制备及其摩擦学性能

• 作者: 白涛 程先华
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 3-巯丙基三甲氧基硅烷 自组装 纳米膜 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 化学工程
• 页码范围: 293-296
• 页数: 4页
• 分类号: O634.41
• 字数: 1876字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.2007.02.027

摘要

采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3-巯丙基三甲氧基硅烷单层膜(MPTS-SAM),运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明:在组装初期,硅烷水解产物主要是与基体表面的羟基发生聚合反应,表面出现岛状物;随着组装时间的增加,基体表面的有机硅烷分子之间发生聚合反应,当组装90 min后,可以在基体表面形成完整的自组装薄膜.当组装MPTE-SAM后,基片表面的摩擦系数由无膜时的0.85降到了0.19,说明MPTE-SAM可以降低基片的摩擦系数,并且在较低载荷下具有较好的耐磨性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程先华	上海交通大学机械与动力工程学院	100	916	18.0	24.0
3	白涛	上海交通大学机械与动力工程学院	8	265	8.0	8.0