化学水浴法制备ZnS薄膜及其光学性能

• 作者: 崔占奎 邹正光 龙飞
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 化学
• 关键词: 化学水浴法 ZnS 薄膜 光学性能
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 所属期刊栏目: 开发应用
• 页码范围: 62-64
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 字数: 2518字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2007.10.024

摘要

以酒石酸与柠檬酸钠为络合剂,采用化学水浴法(CBD)沉积ZnS薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDAX)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)研究ZnS薄膜的结构、组成、形貌及光学性能,利用透射光谱计算ZnS薄膜的光学禁带宽度(Eg).结果表明:ZnS薄膜呈立方相晶体结构,经过300℃熟处理1h的ZnS薄膜原子比为Zn:S=1:0.85,表面均一致密,在可见光区的平均透射率达到80%,光学禁带宽度为3.74ev,适合作为太阳能电池过渡层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙飞	桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	31	506	12.0	21.0
2	邹正光	桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	60	837	18.0	26.0
3	崔占奎	桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	3	11	2.0	3.0