平板电极间鞘层离子刻蚀速率计算

• 作者: 尹盛 李战春 王敬义 王飞
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体鞘层 分布函数 平均参数 刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TN304

摘要

利用所建立的鞘层区离子速度分布函数，得出了鞘层区离子平均能量、平均速度、和通量以及高能中性粒子通量和能量通量等数学模型。计算了包括离子和高能中性粒子的刻蚀速率，结果表明与实验数据吻合。各模型都以工艺参数：压力、温度、放电电压以及反应室尺寸等参数表示，为工艺优化提供了理论依据。