管状铝质材料的等离子体电解沉积行为研究

• 作者: 冯文然 吕国华 张谷令 杨思泽 陈光良 陈睆 顾伟超
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体电解沉积 铝管 表面改性 陶瓷层
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 2337-2341
• 页数: 5页
• 分类号: O53
• 字数: 3826字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.04.080

摘要

对管状铝质材料的等离子体电解沉积行为进行了研究.测试了不同工作电压和不同电极放置模式条件下铝管内部不同位置的电位分布,并通过显微分析观察,对比了不同电极放置模式对铝管内外壁陶瓷沉积层生长情况的影响.结果表明,不同的电极放置模式下,铝管内外壁陶瓷沉积层生长情况有很大差异.这是因为不同的电极放置模式对铝管内的电场分布具有很大影响,进而影响到铝管内外壁陶瓷层的沉积过程.只有外电极时,由于电场屏蔽作用,不能在铝管内壁形成均匀陶瓷层;在铝管内部加入辅助中心电极后,铝管内部产生均匀电场,这有利于在其内壁形成均匀的陶瓷层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张谷令	中国科学院物理研究所	12	156	7.0	12.0
2	杨思泽	中国科学院物理研究所	34	349	11.0	17.0
3	吕国华	中国科学院物理研究所	8	135	4.0	8.0
4	顾伟超	中国科学院物理研究所	3	41	3.0	3.0
5	陈睆	中国科学院物理研究所	1	3	1.0	1.0
6	陈光良	中国科学院物理研究所	5	107	4.0	5.0
7	冯文然	中国科学院物理研究所	4	61	3.0	4.0