关于CVD金刚石表面图形化的研究进展

• 作者: 吴宇琼 孙蕾 汪建华 满卫东 谢鹏
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石 图形化 刻蚀 等离子体
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 63-67
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2008.02.001

摘要

金刚石膜是一种具有巨大应用潜力的新型功能材料,但是它极高的硬度和良好的化学稳定性使其难以被加工成型,因此如何对金刚石膜表面进行精确的图形化加工是实现制造金刚石器件的关键技术问题之一.系统地介绍了金刚石表面各种图形化的技术,并且比较了它们的优缺点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	满卫东	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
2	吴宇琼	江汉大学化学与环境学院	19	76	5.0	8.0
3	谢鹏	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	13	110	6.0	10.0
4	孙蕾	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	7	73	4.0	7.0
5	汪建华	江汉大学化学与环境学院	1	2	1.0	1.0