氧化钨单晶纳米带和纳米线的气相合成

• 作者: 王世良 贺跃辉 高程 黄伯云
• 来源期刊: 中国钨业
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钨 纳米带 纳米线 气相沉积
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 治金·材料
• 页码范围: 33-37
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 3570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0622.2008.01.009

摘要

利用W纳米粉和Ni(NO3)2-6H2O的高温反应,可制备出长度超过20μm,宽度在200～2000nm,厚度在50nm以下的氧化钨纳米带和长度在20μm以上,直径在100nm以下的氧化钨纳米线.合成的纳米带和纳米线均排列成放射式花状结构.XRD,SEM,TEM和EDS等一系列分析表征结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是沿<010>方向生长的,具有完好单晶结构的W18O49相.化学反应热力学分析与计算结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是通过气相沉积的方式形成的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺跃辉	中南大学粉末冶金国家重点实验室	295	3508	29.0	41.0
2	黄伯云	中南大学粉末冶金国家重点实验室	607	8891	43.0	60.0
3	王世良	中南大学粉末冶金国家重点实验室	28	116	7.0	8.0
9	高程	中南大学粉末冶金国家重点实验室	3	19	3.0	3.0