等离子体增强液态源MOCVD系统的研制

• 作者: 刘卫国 周顺 张伟 张雄星 金娜 高爱华
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属有机物化学气相沉积 汽化器 氧化物铁电薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 476-480
• 页数: 5页
• 分类号: TP271
• 字数: 3357字
• 语种: 中文

摘要

本文介绍了一台新型等离子体增强液态源MOCVD系统.系统由液态源汽化装置、反应室、等离子体产生装置、真空系统及自动控制系统等主要部分组成.该系统采用了由超声雾化器和加热腔组成的液态源汽化装置,将液态源转变成气态供给反应室沉积薄膜.为了提高金属有机物的化学反应活性,在有布气盒结构的反应室基础上,引入了射频等离子体.真空控制采用了由蝶阀、真空规和机械增压泵组成的闭环控制系统.自动控制系统的设计基于PLC和触摸屏,通过触摸屏完成工艺参数设置及实时数据显示,通过PLC完成系统控制.使用该液体输送MOCVD系统在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积了锆钛酸铅铁电薄膜.实际应用证明,该系统结构紧凑,高度自动化以及控制灵活,适合于制备高质量的复合金属氧化物薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高爱华	西安工业大学光电微系统研究所	51	247	8.0	12.0
2	金娜	西安工业大学光电微系统研究所	9	42	2.0	6.0
3	刘卫国	西安工业大学光电微系统研究所	112	575	12.0	17.0
4	张雄星	西安工业大学光电微系统研究所	42	150	6.0	10.0
5	周顺	西安工业大学光电微系统研究所	32	113	6.0	8.0
6	张伟	西安工业大学光电微系统研究所	28	128	7.0	10.0