溅射角度对氧化铬薄膜性能结构的影响

• 作者: 于栋利 张天伟 杨会生 王燕斌 罗庆洪 陆永浩
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射角 显微结构 反应磁控溅射 氧化铬薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（z1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 2259字
• 语种: 中文

摘要

硬质涂层对工件表面改性已经成为现代先进制造加工行业越来越重视的工艺,工件一般为复杂外形,保证工件表面涂层性能结构的一致性尤为重要,为此,必须研究工件与靶源之间的相对位置对涂层结构性能影响的关系,为涂层工艺的工程化应用提供理论依据.本文采用射频反应磁控溅射分别在高速钢和单晶硅片基体上沉积了氧化铬薄膜,研究了样品表面与靶表面相对取向对涂层的相结构、表面和断面形貌、力学性能、生长模式等因素的影响.结果表明溅射方法沉积涂层的临界角度为45°,该临界点决定了涂层的性质与生长模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王燕斌	北京科技大学材料物理与化学系	44	250	9.0	13.0
2	张天伟	北京科技大学材料物理与化学系	2	5	1.0	2.0
3	杨会生	北京科技大学材料物理与化学系	21	118	6.0	10.0
4	陆永浩	北京科技大学材料物理与化学系	45	134	6.0	9.0
5	于栋利	燕山大学材料科学与工程学院	23	79	5.0	7.0
6	罗庆洪	北京科技大学材料物理与化学系	7	26	3.0	4.0