镍基体上银和铜膜的择优取向及其价电子分析

• 作者: 张建民 张晓军 王安祥 翟学军
• 来源期刊: 宝鸡文理学院学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 择优取向 固体与分子经验电子理论 电子密度
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 49-53
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1261.2008.01.013

摘要

目的 研究在Ni(100)基体上沉积Ag和Cu膜的择优取向的形成机理.方法 采用X-射线衍射进行分析,根据固体与分子经验电子理论(EET)的键距差(BLD)方法,计算Ni(100)晶面、Ag和Cu的33个晶面的平均电子密度及相对电子密度差.结果 X-射线衍射分析结果表明,在Ni(100)基体上沉积Ag和Cu膜的主要择优取向为(111),其次依次为(100)和(110).计算结果表明,2个晶面的电子密度差越小,相应的择优取向越强.结论 从界面处电子密度的连续原理成功地分析了在基体上沉积薄膜的择优取向的产生机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张建民	陕西师范大学物理学与信息技术学院	91	480	12.0	19.0
2	王安祥	西安工程大学理学院	39	198	7.0	13.0
3	翟学军	西安工程大学理学院	33	90	4.0	8.0
4	张晓军	西安工程大学理学院	29	60	4.0	6.0