单层膜厚对钙锶铋钛钕薄膜结构及性能的影响

• 作者: 冯博楷 张丰庆 张伟 范素华 车全德 马建平
• 来源期刊: 山东建筑大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钙锶铋钛钕薄膜 铁电性能 Sol-Gel法 单层膜厚
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TM223
• 字数: 3066字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-7644.2008.01.011

摘要

采用Sol-Gel法和层层快速退火工艺,通过控制甩膜转速在Pt/Ti/SiO2/Si 基片上制备了单层膜厚不同的钙锶铋钛钕(C0.4S0.6NT)铁电薄膜.研究了单层膜厚对于C0.4S0.6NT铁电薄膜的结构及性能的影响.研究结果表明:适当的单层膜厚有利于薄膜在(200)方向的择优取向,有利于薄膜的铁电性能.单层膜厚为60nm时,C0.4S0.6NT薄膜具有优良的铁电性能,2Pr和2Ec分别为24.155μC/cm2、148.412kV/cm,具有较高的应用价值..

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丰庆	山东建筑大学材料科学与工程学院	42	185	8.0	11.0
2	冯博楷	山东建筑大学材料科学与工程学院	5	27	3.0	5.0
3	范素华	山东建筑大学材料科学与工程学院	34	191	8.0	11.0
4	张伟	山东建筑大学材料科学与工程学院	19	113	7.0	9.0
5	马建平	山东建筑大学材料科学与工程学院	9	34	4.0	5.0
6	车全德	山东建筑大学材料科学与工程学院	9	25	3.0	4.0