PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合

• 作者: 刘永顺 吴一辉 张平 薛向尧 黎海文
• 来源期刊: 功能材料与器件学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氧等离子体 聚二甲基硅氧烷(PDMS) 键合 XPS
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 877-882
• 页数: 6页
• 分类号: O634|TN405
• 字数: 3397字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-4252.2008.05.005

摘要

为了实现室温、常压下聚二甲基硅氧烷(PDMS)与硅的键合,本文利用氧等离子体分别对PDMS、硅进行表面改性处理.考察了等离子体射频电源功率、处理时间、氧气流量对PDMS-硅键合强度的影响.通过优化工艺适当降低PDMS表面被氧化的程度,可使PDMS活性表面的持续时间延长至45分钟,实现了PDMS-硅在室温常压下的永久性键合.通过X-射线光电子能谱(XPS)对改性后PDMS表面化学组分变化的分析,可推断出PDMS表面Si-OH的稳定性是影响键合强度的主要因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平		5	40	3.0	5.0
2	刘永顺		3	32	2.0	3.0
3	黎海文		2	25	2.0	2.0