13.9和19.6nm正入射Mo/Si多层膜反射镜的反射率测量

• 作者: 刘世界 刘震 李敏 李旭 王丽辉 范鲜红 董宁宁 陈波 马月英
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: Mo/Si多层膜反射镜 反射率测量 表面粗糙度 极紫外光源 激光等离子体光源
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1666-1672
• 页数: 7页
• 分类号: O484.5|TH741.4
• 字数: 4208字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.09.017

摘要

为了进一步研究13.9nm类镍银和19.6nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜.设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率.测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08nm,光源信号抖动范围＜5%,光源稳定性好.反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60nm的Mo/Si多层膜反射镜.相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70nm.同时还用WYKO测量得到13.9和19.6nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55nm.