13 nm 窄带 Si/Mo/C 多层膜反射镜

• 作者: 周洪军 张众 彭太平 徐荣昆 易强 杨洋 王占山 王香梅 霍同林 黄秋实
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 多层膜 Mo/Si Si/Mo/C Z-pinch 光谱诊断 反射率 带宽
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: ICF 与激光等离子体
• 页码范围: 122002-1-122002-6
• 页数: 1页
• 分类号: O434.2
• 字数: 2015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201628.160440

摘要

基于多层膜准单色覆盖50~1500 eV 能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch 等离子体 X 射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件，在13 nm 处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的 Mo/Si 多层膜尽管反射率最高，但其带宽较大，不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将 Mo 和 C 共同作为多层膜的吸收层材料与 Si 组成 Si/Mo/C 多层膜，可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了 Si/Mo/C 多层膜，其掠入射 X 射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整，同步辐射工作条件下反射率测量，得到 Si/Mo/C 多层膜在13 nm 处和掠入射角60°时的反射率为56.5%，带宽为0.49 nm(3.7 eV)。