基于遗传算法的接近式紫外光刻中掩模补偿优化研究

• 作者: 张四海 李晓光 李木军 沈连婠 郑津津
• 来源期刊: 系统仿真学报
• 学科: 工学
• 关键词: 接近式光刻 遗传算法 掩模优化 掩模 UV-LIGA
• 年，卷（期）: 2008,（17）
• 所属期刊栏目: 人工智能与仿真
• 页码范围: 4601-4604
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2927字
• 语种: 中文

摘要

针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,基于补偿思想,应用遗传算法,在引起衍射的掩模特征处,通过调整其形状,实现了光刻胶表面的衍射光场调制.根据光刻曝光轮廓特点,设计评价策略,提出一种分段分类的思想,减小了问题的求解空间,快速优化了掩模设计图形.仿真结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度.该研究为如何提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张四海	中国科学技术大学计算机科学技术系	22	247	6.0	15.0
2	郑津津	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	56	224	8.0	11.0
3	沈连婠	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	63	319	7.0	12.0
4	李晓光	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	55	673	9.0	25.0
5	李木军	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	32	137	6.0	9.0