厚胶接近式光刻中掩模优化研究

• 作者: 何骏 刘世杰 王岳亮 王斌 郭猛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 光学邻近效应 掩模优化 厚胶 遗传算法
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 微纳技术
• 页码范围: 203-208
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.074104

摘要

随着光刻胶厚度的不断增大,制作的光刻图形畸变愈发严重,这极大的影响了微结构器件的性能与应用.针对高深宽比柱状微结构在光刻胶厚度方向上畸变的特点,提出了双面曝光和亮衬线、灰阶掩模相结合的办法,利用遗传算法对失真影响最大的区域进行搜索,光刻胶内部各层的衍射光场分布作为评价函数,对光刻过程引起的畸变进行优化.仿真结果显示,优化后光刻胶各层面型质量得到极大的改善,特征尺寸和边墙角等参数与理论值吻合得更好.优化算法具有很好的灵活性,因此在用于更厚光刻胶、更复杂掩模图形的优化上,具有重要的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王斌	中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室	325	6645	42.0	69.0
5	刘世杰	中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室	29	104	5.0	9.0
6	郭猛	中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室	4	0	0.0	0.0
10	何骏	中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室	2	0	0.0	0.0