基于 SEM 纳米级电子束曝光机的快速束闸设计

• 作者: 刘俊标 张福安 方光荣 薛虹 靳鹏云 顾文琪
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 束闸 扫描电子显微镜 图形发生器
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.9
• 字数: 2511字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.002

摘要

基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动器等方面讨论快速柬闸的设计.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊标	中国科学院电工研究所	45	181	8.0	11.0
2	方光荣	中国科学院电工研究所	32	154	7.0	10.0
3	靳鹏云	中国科学院电工研究所	15	21	2.0	3.0
4	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
5	张福安	中国科学院电工研究所	9	10	2.0	2.0
6	薛虹	中国科学院电工研究所	18	30	3.0	4.0