355 nm增透膜的设计、制备与性能

• 作者: 余华 崔云 易葵 申雁鸣 范正修 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 增透膜 热舟蒸发 真空退火 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 2026-2030
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2123字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2008.12.034

摘要

用热舟蒸发法结合修正挡板技术制备了355 nm LaF3/MgF2增透膜,并对部分样品进行了真空退火.采用Lambda 900光谱仪测试了增透膜的低反光谱和透射光谱,并考察了其光谱稳定性;使用脉冲8 ns的355 nm激光测试了增透膜的激光损伤阈值(LIDT);采用Normarski显微镜对增透膜的表面缺陷密度和破斑形貌进行了观察.实验结果表明,制备得到的增透膜的剩余反射率较低,光谱稳定性好;真空退火对增透膜的激光损伤阈值没有改善;增透膜的破环形貌为散点形式,结合破斑深度测试表明薄膜的破坏源于薄膜和基底界面的缺陷点.JGSl熔石英基底由于有好的表面状况、固有的高激光损伤阈值和以其为基底的增透膜具有更低的表面场强,使得其上的增透膜有更高的抗激光损伤能力.