电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用

• 作者: 任黎明 刘明 刘键 吴璇 徐秋霞 朱效立 牛洁斌 王琴 谢常青 赵珉 陈宝钦
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻 电子束直写 电子束邻近效应校正 纳米制造 纳米器件 纳米结构
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 专家论坛
• 页码范围: 683-688
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.6|TN305.7
• 字数: 7399字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.12.001

摘要

电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用.介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOL JBX 5000LS、JBX 6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电子束直写系统所开展的纳米器件和纳米结构制造工艺技术方面的研究.重点阐述了如何利用电子束直写技术实现纳米器件和纳米结构的电子束光刻.针对电子束光刻效率低和电子束光刻邻近效应等问题所采取的措施;采用无宽度线曝光技术和高分辨率、高反差、低灵敏度电子抗蚀剂相结合实现电子束纳米尺度光刻以及采用电子束光刻与X射线曝光相结合的技术实现高高宽比的纳米尺度结构的加工等具体工艺技术问题展开讨论.