有机玻璃表面沉积氧化硅层的摩擦磨损性研究

• 作者: 付亚波 孙运金 张跃飞 杨莉 陈强
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD 氧化硅涂层 结构分析 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 374-378
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.2+3
• 字数: 3137字
• 语种: 中文

摘要

采用射频等离子体化学气相沉积的方法在有机玻璃表面沉积一层氧化硅薄膜,以提高其耐磨性能.分别使用红外光谱、金相显微镜和微型磨损试验机对所沉积的氧化硅薄膜进行了结构和表面性能分析.测试了改性前后试样的摩擦磨损行为.FTIR测试结果表明,所沉积薄膜出现了明显的Si-O-Si吸收峰,说明沉积物为氧化硅结构.磨损试验显示氧化硅涂层可以显著地提高有机玻璃的耐磨性能, 但受等离子体放电参数的影响.最后,对参数进行了优化并得到了最佳的沉积工艺.在放电功率为200 W,氧气和单体的比例为3∶1,工作气压40 Pa,沉积时间30 min的条件下,沉积的氧化硅薄膜具有最佳的耐摩擦磨损性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	125	542	10.0	17.0
2	付亚波	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	48	172	7.0	10.0
3	杨莉	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	7	55	5.0	7.0
4	孙运金	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室	4	22	4.0	4.0