脉冲激光沉积类金刚石膜技术

• 作者: 万强 卢常勇 孙斌 王小兵 王淑云 程勇 袁孝 郭延龙
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 类金刚石膜 超快激光 负偏正
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 32-37
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 6833字
• 语种: 中文

摘要

脉冲激光沉积(PLD)技术制备类金刚石(DLC)薄膜存在着金刚石相含量较低、石墨颗粒多、薄膜与衬底附着力差、膜内应力大等技术难题,为此,研究人员研究出了多种技术措施,如通过引入背景气体、超快激光、偏压、磁场以及加热等措施提高了薄膜金刚石相含量;采用金刚石或丙酮靶材、减小单脉冲能量等措施减少了石墨颗粒;采用间歇沉积、真空退火、超快激光等措施减少了膜内应力;合理没计过渡层改善了膜与衬底间的附着力等.这些技术有力地推动了脉冲激光沉积技术的发展.