利用脉冲激光真空弧沉积技术制备类金刚石薄膜

• 作者: 蒋娜娜 邵天敏 陈大融
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光真空弧 类金刚石薄膜 激光拉曼 摩擦系数
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 187-192
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3216字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2005.01.029

摘要

介绍了一种新的脉冲激光真空弧沉积技术,利用该技术在硅基片上制备了类金刚石薄膜.利用激光拉曼分析技术对沉积膜进行了结构分析,结果表明沉积膜为非晶结构,具有明显的sp3结构特征.同时利用纳米划痕压痕仪、原子力显微镜等分析设备对膜的表面形貌、微观摩擦学性能进行了分析,结果表明Si〈100〉基片上沉积膜的表面形貌和微观摩擦学性能略优于Si〈111〉基片上沉积的薄膜,其摩擦系数平均值为0.036.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈大融	清华大学摩擦学国家重点实验室	123	1688	22.0	34.0
2	邵天敏	清华大学摩擦学国家重点实验室	38	479	13.0	20.0
3	蒋娜娜	清华大学摩擦学国家重点实验室	4	27	3.0	4.0