电沉积因瓦合金镀层成分的影响因素

• 作者: 刘天成 卢琳 李鹏 章愫
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铁镍合金 因瓦合金 电沉积 纳米晶
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 冶金与材料
• 页码范围: 903-907
• 页数: 5页
• 分类号: TG132.2
• 字数: 3306字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2008.08.013

摘要

采用电沉积方法在硫酸盐体系中制得了Fe-Ni合金镀层.研究了Fe2+与Ni2+的摩尔比、氯化亚铈浓度、抗坏血酸浓度、镀液温度、pH、阴极电流密度和电沉积时间对镀层铁含量的影响规律,确定了适宜电沉积因瓦合金的最佳工艺条件,并采用EDS,XRD和TEM对所得镀层进行了分析.验证性实验结果表明,制备的镀层具有与因瓦合金相似的成分,其Fe和Ni质量分数分别为61.8%～62.1%和37.9%～38.1%,它是由单一的纳米晶?固溶体组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李鹏	北京科技大学材料科学与工程学院	21	158	8.0	12.0
2	卢琳	北京科技大学材料科学与工程学院	39	190	7.0	13.0
3	章愫	北京科技大学材料科学与工程学院	1	9	1.0	1.0