折射微光学结构出射复杂光学波前

• 作者: Li Jisai Xie Changsheng 季安 张新宇
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光电子学 折射微光学结构 波前 制备工艺 高性能成像探测和仿真
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 1156-1160
• 页数: 5页
• 分类号: O438|O47
• 字数: 3320字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2008.08.006

摘要

通过单掩模紫外(UV)光刻、感应耦合等离子体(ICP)刻蚀及KOH:H<,2>O化学腐蚀,在硅片上制作5×5元面阵硅折射微光学结构.通过电化学方法将制成的硅精细图形结构转换成镍版,进而通过压制法将精细的镍版图形进一步转印到有机玻璃材料上,从而制成面阵光学波前出射结构.光刻版由结构尺寸在微米量级的大量微孔组成,其特征尺度和排布方式由算法生成.微形貌测试显示了制作的折射微光学波前出射结构具有预期的表面形貌特征.通过常规光学测试,比较和分析了出射复杂波前的情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张新宇	华中科技大学多谱信息处理技术国防科技重点实验室	16	69	4.0	8.0
5	Li Jisai	中国科学院半导体研究所	1	1	1.0	1.0
6	季安	华中科技大学多谱信息处理技术国防科技重点实验室	1	1	1.0	1.0
10	Xie Changsheng	中国科学院半导体研究所	1	1	1.0	1.0