沉积速率对硅基LiNbO3光波导薄膜特性的影响

• 作者: 叶志镇 王新昌 赵炳辉
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积法(PLD) LiNbO3薄膜 光波导 沉积速率 SiO2/Si衬底
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1486-1489
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3025字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-0086.2008.11.014

摘要

利用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3晶体薄膜,研究了激光脉冲频率即薄膜沉积速率对薄膜结晶质量及取向性的影响,发现激光脉冲频率对薄膜的c轴取向性基本没有影响,但对薄膜的结品质量影响较大,激光脉冲频率为3 Hz时获得了高结品质量的c轴取向LiNbO3晶体薄膜.XPS测试表明制得薄膜的组分符合等化学计量比,AFM测试显示制备的薄膜表面光滑,表面粗糙度为4.3 nm.棱镜耦合法测试表明制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光传输损耗为1.14 dB/cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶志镇	浙江大学硅材料国家重点实验室	155	1638	21.0	35.0
2	赵炳辉	浙江大学硅材料国家重点实验室	74	719	14.0	24.0
3	王新昌	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	30	79	4.0	7.0