FTIR法研究BCN薄膜的内应力

• 作者: 冯克成 宋哲 王玉新 赵永年 郑亚茹
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 硼碳氮薄膜 傅里叶变换红外光谱 内应力
• 年，卷（期）: 2008,（7）
• 页码范围: 1526-1529
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593.2008.07.020

摘要

采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si(100)衬底上制备出硼碳氮(BCN)薄膜.利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)考察了不同沉积参数(溅射功率为80～130 W、衬底温度为300～500℃、沉积时间为1～4 h)条件下制备的薄膜样品.实验结果表明,所制备薄膜均实现了原子级化合.并且沉积参数对BCN薄膜的生长和内应力有很大影响,适当改变沉积参数能有效释放BCN薄膜的内应力.在固定其他条件只改变一个沉积参数的情况下,得到制备具有较小内应力的硼碳氮薄膜的最佳沉积条件:溅射功率为80 W、衬底温度为400℃、沉积时间为2 h.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑亚茹	辽宁师范大学物理系	30	308	7.0	17.0
2	王玉新	辽宁师范大学物理系	53	127	5.0	9.0
3	冯克成	长春理工大学理学院	38	205	8.0	12.0
4	赵永年	吉林大学超硬材料国家重点实验室	23	119	7.0	9.0
5	宋哲	辽宁师范大学物理系	17	64	4.0	7.0