不同晶态比条件下氢化纳米硅薄膜的力学性能

• 作者: 丁建宁 何宇亮 祁宏山 程广贵 袁宁一 郭立强
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: nc-Si H薄膜 晶态比 杨氏模量 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 106-109
• 页数: 4页
• 分类号: O484.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2009.02.003

摘要

采用射频(radio frequency,RF,13.56 MHz)和直流偏压双重激励源,在等离子增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)系统下制备了康宁玻璃7059衬底上的氢化纳米硅薄膜.保持射频功率、反应室气压、直流偏压值和衬底温度等工艺参数不变的情况下,主要改变硅烷稀释度(silane concentration,SC)从1%到0.5%.当SC减小时,薄膜的晶态比Xc反而出现了增大现象,表明较低的Sc有利于薄膜结构中晶态成分的形成.当SC减小到0.5%时,Xc则出现最大值54.2%.文中具有不同薄膜晶态比的样品力学性能采用美国Hysitron公司的Tribolndenter纳米压痕系统进行测量,薄膜的杨氏模量和硬度值利用Oliver和Pharr的解析方法得出.结果表明:当薄膜的Xc从50.5%增大到54.2%时,薄膜的杨氏模量和硬度值都大大增加,这种现象的产生是由于不同Xc的薄膜具有不同的晶态微结构,因此薄膜的Xc值在很大程度上决定薄膜的力学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁建宁	江苏工业学院低维材料微纳器件与系统研究中心	146	769	14.0	19.0
5	郭立强	江苏大学机械工程学院	12	24	3.0	4.0
6	程广贵	江苏大学机械工程学院	48	176	8.0	12.0
7	袁宁一	江苏工业学院低维材料微纳器件与系统研究中心	26	154	8.0	10.0
8	祁宏山	江苏大学机械工程学院	2	9	1.0	2.0
9	何宇亮	江苏工业学院低维材料微纳器件与系统研究中心	1	1	1.0	1.0