金属离子及添加表面活性剂对谷氨酸发酵的影响

• 作者: 张伟国 秦海斌
• 来源期刊: 食品工业科技
• 学科: 工学
• 关键词: 谷氨酸 发酵 金属离子 表面活性剂
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 所属期刊栏目: 生物工程
• 页码范围: 167-169,173
• 页数: 4页
• 分类号: TS201.2
• 语种: 中文

摘要

在谷氧酸发酵过程中,用单因素实验方法研究不同金属离子和表面活性剂对谷氧酸发酵的影响,利用DesignExpert 7.0软件响应面分析法优化最适合谷氨酸合成的金属离子浓度以及表面活性剂的加入时机对谷氨酸发酵的影响.研究表明,发酵培养基中金属离子Mg2+浓度为0.204g/L,K+浓度为1.003g/L,最适宜于谷氡酸棒杆菌合成谷氨酸,提高发酵水平,并且在发酵过程中OD为0.40时,添加0.2g/L的Tween-80可以增加谷氨酸的产量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟国	江南大学工业生物技术教育部重点实验室	99	733	15.0	19.0
2	秦海斌	江南大学工业生物技术教育部重点实验室	2	9	1.0	2.0