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明场缺陷检测机台的发展及其在32/45nm技术中的应用
明场缺陷检测机台的发展及其在32/45nm技术中的应用
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摘要：
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多米诺逻辑
阈值电压
亚阈值泄漏
栅极氧化层
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零件
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预处理
图像识别
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流水线模数转换器
逐次逼近
过零检测
高速动态比较器
低功耗
图像处理技术在表面缺陷检测中的应用
图像处理
专家系统
表面缺陷
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期刊影响力
集成电路应用
主办单位：
上海贝岭股份有限公司
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-2583
CN：
31-1325/TN
开本：
16开
出版地：
上海宜山路810号
邮发代号：
创刊时间：
1984
语种：
chi
出版文献量（篇）
4823
总下载数（次）
15
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