β-FeSi2薄膜制备与发光研究的进展

• 作者: 周博 张峰 朱放 燕路 肖志松 黄安平
• 来源期刊: 中国光学与应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: β-FeSi2薄膜 薄膜制备 硅基发光材料 光电集成
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 119-125
• 分类号: TN304.055|O482.31
• 字数: 4746字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1531.2009.02.007

摘要

过渡金属硅化物β-FeSi2因其原料价格低廉且利于环保而成为理想的硅基发光材料之一.探讨了β-FeSi2的发光机理,介绍了几种β-FeSi2薄膜制备方法并比较了不同制备方法的特点,总结了最近几年来β-FeSi2的研究进展和主要研究结果.结合作者已经取得的结果和积累的经验,提出了提高材料发光性能方法,认为良好的结晶质量和尽可能减少缺陷是β-FeSi2高效发光的基础,因此有必要探索新的制备方法并改善已有的制备工艺.另外,尝试在β-FeSi2薄膜中应用其它元素,也有可能增大发光效率;而有效激发β-FeSi2的p-i-n结构也是提高发光效率的方法之一.最后,讨论了β-FeSi2的发展趋势,展望了该种材料的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖志松	北京航空航天大学物理系	17	119	6.0	10.0
2	朱放	北京航空航天大学物理系	4	52	3.0	4.0
3	黄安平	北京航空航天大学物理系	23	121	6.0	10.0
4	周博	北京航空航天大学物理系	6	21	3.0	4.0
5	燕路	北京航空航天大学物理系	5	29	3.0	5.0
6	张峰	北京航空航天大学物理系	9	27	3.0	5.0