β-FeSi2/Si薄膜位向关系的计算

• 作者: 叶飞 张文征 朱玉满
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 取向关系 界面结构 Δg平行法则 CCSL模型 β-FeSi2薄膜 Si衬底
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 635-639
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O76
• 字数: 3773字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.05.003

摘要

利用从固态相变产生的沉淀相惯习面总结出的Δg平行法则,计算了β-FeSi2半导体薄膜和Si基体之间可能的择优取向关系.根据界面匹配和结构的分析,建议最优衬底基面的晶体学位向.预测的界面是一个无理面,含有原子尺度台阶,晶格间具有良好匹配关系.以该界面位向作为Si衬底的基面有可能导致高质量金属硅化物β-FeSi2薄膜的生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张文征	清华大学材料系	18	47	4.0	6.0
2	叶飞	清华大学材料系	2	9	2.0	2.0
3	朱玉满	清华大学材料系	1	2	1.0	1.0