TA2表面磁控溅射CNx/SiC薄膜的纳米压痕与摩擦磨损性能

• 作者: 卓刘成 夏登福 许晓静 郝欣妮 韦宝存
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钛基材 薄膜 纳米压痕 摩擦磨损 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 256-260
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文

摘要

采用室温磁控溅射技术在工业纯钛(TA2)表面制备出氮化碳/碳化硅(CNx/SiC)双层薄膜,SiC为中间层.研究了CNx薄膜的纳米压痕行为和摩擦磨损性能.试验结果表明:CNx薄膜的纳米硬度(H)为15.80 GPa,杨氏弹性模量(E)为130.88 GPa,硬度与弹性模量比值(H/E)为0.121;与φ4mm的氮化硅球对摩,在载荷1.96 N、室温Kokubo人体模拟体液条件下,CNx薄膜的磨损速率为10-6mm3/(m·N)级,摩擦系数约为0.124,磨损后薄膜未出现裂纹和剥落.分析表明,薄膜具有的良好抗磨性能与其H/E高、抗腐蚀性强以及摩擦系统摩擦系数低相一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许晓静		227	1298	17.0	26.0
2	郝欣妮		10	36	4.0	6.0
3	夏登福		8	29	3.0	5.0
4	卓刘成		8	36	4.0	6.0
5	韦宝存		3	15	1.0	3.0