柔性ITO衬底上铜酞菁薄膜有序生长的X射线衍射研究

• 作者: 朱宏伟 梁氏秋水 盛勇 胡豫 陈振兴
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铜酞菁 X射线衍射 柔性衬底 真空蒸发沉积 有序薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TQ04
• 字数: 1407字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2009.11.013

摘要

采用石英晶体微天平实时监测薄膜生长速率,通过控制衬底温度与薄膜生长速率,在柔性ITO导电衬底上真空蒸发沉积了铜酞菁薄膜.X射线衍射分析表明,适当提高衬底温度与薄膜生长速率,可促进薄膜的有序生长.当衬底温度为90℃,生长速率为10nm/min时,薄膜的有序度最高,薄膜晶型呈(相和(200)晶面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈振兴	中山大学化学与化学工程学院	10	99	5.0	9.0
2	梁氏秋水	中山大学化学与化学工程学院	5	27	3.0	5.0
3	朱宏伟	中山大学化学与化学工程学院	7	90	5.0	7.0
4	盛勇	中山大学化学与化学工程学院	3	12	3.0	3.0
5	胡豫	中山大学化学与化学工程学院	3	13	3.0	3.0