氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜的制备及其光学性能

• 作者: 彭强祥 李志杰 祖小涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 溶胶-凝胶 薄膜 氧化锡 氧化硅 量子点
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 770-774
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.13
• 字数: 3109字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶-凝胶-水热过程制备了氧化硅稳定的氧化锡量子点,然后将其分散到氧化硅溶液中,用旋转涂膜的方法制备光学性能良好的氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜.X射线衍射和高分辨透射电镜表征显示氧化锡量子点具有良好的四方金红石晶型,平均粒径约4.0 nm.室温光致发光显示这种氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜在356 nm和388 nm处分别有很强的激子发光和缺陷态发光.根据透射谱拟合得到了氧化锡量子点薄膜的光学禁带宽度,其值约为3.96 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祖小涛	电子科技大学物理电子学院	111	627	12.0	17.0
2	李志杰	电子科技大学物理电子学院	5	33	4.0	5.0
3	彭强祥	电子科技大学物理电子学院	6	19	2.0	3.0