提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究

• 作者: 李云程 陈文光 饶益花
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 太阳能集热管 选择性吸收涂层 沉积速率 镀膜 模糊控制 恒电压控制
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 328-331
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.8|TN305.92
• 字数: 2150字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.22

摘要

工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相化学反应动力学理论,薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度,提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法.该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器,控制N2流量大小,让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近,实现反应溅射恒电压控制.并且采用单片机技术制作了样机,在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用,实验结果表明,镀膜沉积速率提高了4倍以上,整个系统工作稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈文光	南华大学电气工程学院	66	288	10.0	14.0
2	饶益花	南华大学数理学院	37	153	7.0	10.0
3	李云程		2	9	2.0	2.0