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摘要:
以NSR1755i7A型投影曝光机为基础.分析了影响大面积精细光刻图形分辨率的主要因素.利用表面平坦化技术、BARC工艺技术和PEB工艺技术,解决了高分辨率和聚焦深度的矛盾,消除了曝光过程中出现的表面反射和因驻波造成曝光图形边缘罗纹状的现象,实现了大面积(17.5mm×17.5mm)、高长宽比(160)、高密集(占空比36%)、高分辨率亚微米(0.5μm)精细线条光刻.同时提出了采用两次曝光技术在NSR1755i7A型投影曝光机上实现了厚胶高分辨率图形的制作.
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文献信息
篇名 大面积高分辨率光刻技术研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 NSR1755i7A型投影曝光机 大面积精细图形光刻 分辨率 聚焦深度 表面平坦化 BARC PEB
年,卷(期) 2009,(3) 所属期刊栏目 光刻技术与设备
研究方向 页码范围 11-14
页数 4页 分类号 TN305.7
字数 2477字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2009.03.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张振宇 中国电子科技集团公司第十三研究所 4 11 3.0 3.0
2 邓建国 中国电子科技集团公司第十三研究所 19 45 4.0 5.0
3 刘英坤 中国电子科技集团公司第十三研究所 30 183 8.0 12.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
NSR1755i7A型投影曝光机
大面积精细图形光刻
分辨率
聚焦深度
表面平坦化
BARC
PEB
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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