杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响

• 作者: 王大伦 秦建国 赖财锋
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 特征X射线 氢气 新谱线 靶 气体放电源
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 961-969
• 页数: 9页
• 分类号: O461.1|O562.1
• 字数: 5874字
• 语种: 中文

摘要

在氢气放电源打靶的实验中,测到了系列能量恒定不变的低能X射线新谱线,这些新谱线的能量分别为(1.70±0.10)keV,(2.25±0.07)keV,(2.56±0.08) keV,(3.25±0.10) keV和(3.62±0.11) keV,与Si,Ta,S,Cl,K和Ca等元素的特征X射线能量相近,但靶中所含的杂质或来自放电室的杂质元素可能会产生这些能量的X射线谱峰,证实新谱线是否由这些元素的特征X射线干扰所致显得尤为重要.分析了本实验系统中各种杂质的可能来源,论证了放电室端杂质对新谱线的影响,及靶材料中体杂质和面杂质对新谱线的影响;用X射线光电子能谱仪对靶做了表面分析.研究结果表明:杂质元素的特征X射线不会对氢气放电源打靶产生的新谱线有影响.这些新谱线的性质有待进一步的实验研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王大伦	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	17	43	4.0	6.0
2	秦建国	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	13	30	3.0	5.0
3	赖财锋	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	14	31	3.0	5.0