高温氨预处理对单晶硅衬底上镍薄膜显微结构的影响

• 作者: 周明 李刚 蔡兰 马伟伟
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氨气刻蚀 溅射 纳米颗粒 硅衬底
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 158-161,176
• 页数: 5页
• 分类号: TG156.8|O484
• 语种: 中文

摘要

采用K575X高分辨率溅射仪在单晶硅衬底上制备镍纳米催化剂薄膜.研究了高温氨气刻蚀对镍催化剂由连续薄膜转变成纳米颗粒的影响.探讨了预处理时间、温度和催化剂薄膜原始厚度等工艺参数对镍薄膜微结构的影响,得到了镍催化剂薄膜的氨预处理规律,并初步分析了氨气对其形貌变化的影响机理.研究结果表明,获得均匀、细小和高密度过渡镍金属催化剂颗粒的工艺条件是预处理时间、温度和催化剂薄膜原始厚度分别为12min、800℃和10nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周明	江苏大学光子制造科学技术中心	105	1124	19.0	29.0
2	李刚	江苏大学光子制造科学技术中心	16	101	7.0	9.0
4	马伟伟	江苏大学光子制造科学技术中心	6	31	4.0	5.0
7	蔡兰	华东交通大学机电工程学院	1	4	1.0	1.0