氧化钒薄膜的微观结构研究

• 作者: 吴志明 廖家轩 田忠 蒋亚东 贾宇明 魏雄邦
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 衬底 膜厚 微观结构
• 年，卷（期）: 2009,（20）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 3777字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.20.005

摘要

采用直流反应磁控溅射法在不同基片上制备了80nm和1000nm厚的氧化钒薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜及扫描电镜进行了薄膜微观结构分析.结果表明,薄膜的晶化受衬底影响较大,晶化随膜厚的增加而增强.不同衬底上生长的薄膜晶粒尺寸存在较大差异,Si_3N_4/Si衬底上生长的薄膜晶粒细小,薄膜较为平坦;玻璃衬底、Si衬底和α-Al_2O_3陶瓷衬底上生长的薄膜晶粒较为粗大.随着膜厚的增加,薄膜的晶粒尺寸明显增大,不同衬底上生长的二氧化钒薄膜晶粒都具有一种独特的"纺锤"形或"棒"形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
3	田忠	电子科技大学电子科学技术研究院	37	160	7.0	11.0
4	贾宇明	电子科技大学电子科学技术研究院	14	70	3.0	8.0
5	廖家轩	电子科技大学电子科学技术研究院	22	106	7.0	8.0
6	魏雄邦	电子科技大学电子科学技术研究院	18	94	6.0	8.0