射频磁控溅射氧化钒薄膜的结构与性能研究

• 作者: 刘黎明 史衍丽 曾华荣 杨培志 莫镜辉
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 非晶结构 溅射工艺 电学性能 微测辐射热计
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 260-264
• 分类号: TN215|O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.05.003

摘要

以非制冷微测辐射热计型红外探测器应用为需求背景,采用射频磁控溅射技术在300℃低温条件下制备了氧化钒薄膜.采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、能量色散谱(EDS)及X射线光电子能谱(XPS)技术表征了薄膜的结晶状态、微观结构与化学组成.采用四探针技术研究了薄膜的电学性能.结果表明该薄膜主要为非晶态的二氧化钒( VO2),并具有光滑的表面形貌.这种非晶VO2薄膜在22～100℃温度范围内不存在半导体-金属相变.100 nm厚的非晶VO2薄膜室温下的面电阻为600 kΩ/,同时表现出-2.1％/℃的较高电阻温度系数(TCR),这表明该薄膜有希望用于非制冷微测辐射热计型红外探测器.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘黎明		24	160	7.0	12.0
2	史衍丽		41	372	8.0	18.0
3	杨培志	云南师范大学可再生能源先进材料与制备教育部重点实验室	42	68	5.0	6.0
4	莫镜辉		7	61	4.0	7.0
5	曾华荣	中科院上海硅酸盐研究所	1	3	1.0	1.0