Ge薄膜特性及其在光子计数成像系统中的应用

• 作者: 张兴华 李伟 赛小锋 赵宝升 赵菲菲 邹玮 韦永林
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 电荷感应层 电子束蒸发 光子计数成像 电荷感应读出方式
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 3236-3240
• 分类号: O484.4
• 字数: 3903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20092911.3236

摘要

利用电子束真空蒸镀方法制作了Ge薄膜,用作感应读出方式光子计数成像系统的电荷感应层,研究了石英玻璃衬底和陶瓷衬底上Ge薄膜的结构特征、表面形态以及各种工艺参数对薄膜电阻的影响.X射线衍射(XRD)测试表明,两种衬底上沉积的Ge薄膜均为立方相非晶态.场发射扫描电子显微镜(FESEM)图像表明石英玻璃衬底上的薄膜致密平整,陶瓷衬底上的薄膜比较粗糙,厚度较薄时,陶瓷晶界处薄膜不连续导致电阻较大.通过改变沉积速率、薄膜厚度及采用退火的方法可以控制薄膜电阻.对比了采用不同阻值电荷感应层时系统的性能,发现阻值对探测器的分辨率影响小,对计数率影响较大.