CaF_2-AlF_3-SiO_2系低温共烧氧氟玻璃陶瓷性能

• 作者: 周济 李勃 李龙土 王睿
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 低温共烧陶瓷 氧氟玻璃 玻璃陶瓷
• 年，卷（期）: 2009,（z2）
• 页码范围: 1117-1119
• 页数: 3页
• 分类号: TQ171.73
• 字数: 2452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2009.z2.297

摘要

制备了CaF_2-AlF_3-SiO_2系低温共烧氧氟玻璃陶瓷材料,并且用X射线衍射仪、扫描电镜、阻抗分析仪等研究了该体系材料的烧结特性、显微结构、介电性能等特性.结果表明:该氧氟玻璃陶瓷材料可以在825 ℃烧结致密化,烧成后的样品具有低的介电常数(5.9)、低的介电损耗(<0.002)、较低的热膨胀系数(6.0×10~(-6) ℃~(-1))、足够的抗弯曲强度(150 MPa)以及较高的热导率(2 W/m·K),是一种很有应用前景的低温共烧陶瓷材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李龙土	清华大学新型陶瓷材料与精细工艺国家重点实验室	122	1435	22.0	31.0
2	周济	清华大学新型陶瓷材料与精细工艺国家重点实验室	117	1325	20.0	33.0
3	李勃	清华大学新型陶瓷材料与精细工艺国家重点实验室	31	117	7.0	10.0
4	王睿	清华大学新型陶瓷材料与精细工艺国家重点实验室	25	145	7.0	11.0