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摘要:
本文运用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算方法,根据原子尺度上的缺陷特性研究了4H-SiC的位错结构模型,并对4H-SiC基面位错的结构进行分析,建立了一种模型.文章简要介绍了4H-SiC材料中结构缺陷的分子动力学模拟方法,势能模型及主要技术细节.
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文献信息
篇名 一种基于第一性原理的4H-SiC结构缺陷计算模型
来源期刊 科技信息 学科
关键词 4H-SiC 缺陷模型 第一性原理计算
年,卷(期) 2009,(29) 所属期刊栏目 科教前沿1
研究方向 页码范围 50-51
页数 2页 分类号
字数 1901字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-9960.2009.29.032
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张玉明 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 126 777 15.0 20.0
2 李德昌 西安电子科技大学理学院 20 82 6.0 7.0
3 高春燕 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 15 42 3.0 6.0
5 汤晓燕 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 24 144 7.0 11.0
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研究主题发展历程
节点文献
4H-SiC
缺陷模型
第一性原理计算
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技信息
旬刊
1001-9960
37-1021/N
大16开
山东省济南市
24-72
1984
chi
出版文献量(篇)
124239
总下载数(次)
249
总被引数(次)
255660
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