TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究

• 作者: 何正彪 崔秀芳 肖卫华
• 来源期刊: 河南理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 氮化钛 薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 538-542
• 分类号: TG178
• 字数: 1772字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9787.2010.04.022

摘要

采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪(nano-indentation)等,研究了薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等,讨论了薄膜制备工艺参数,如基体温度、溅射功率、基体负偏压等的影响.结果表明,Ti N薄膜为多晶态,溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔秀芳	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	25	162	7.0	12.0
2	肖卫华		5	19	3.0	4.0
3	何正彪	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	2	7	2.0	2.0