反应磁控溅射法制备二氧化硅薄膜的研究

• 作者: 朱春燕 王稳奇 郗华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 二氧化硅薄膜 光学特性
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 8-10
• 分类号: O484.4
• 字数: 2281字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.003

摘要

采用反应磁控溅射的方法沉积二氧化硅薄膜,研究了二氧化硅薄膜的光学特性,并与用反应离子束溅射方法沉积二氧化硅薄膜进行了对比.实验结果表明:用反应磁控溅射法沉积二氧化硅薄膜,薄膜的折射率、沉积速率主要受反应气体(氧气)浓度的影响,氧气含量超过15%(体积分数)后,溅射过程进入反应模式,沉积速率随氧气浓度增加而降低;入射光波长为630 nm时,薄膜折射率为1.50.对比2种薄膜沉积方法后确定,在二氧化硅薄膜工业生产中,反应磁控溅射方法更为可取.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王稳奇	西安工业大学北方信息工程学院	13	20	2.0	4.0
2	郗华	西安工业大学北方信息工程学院	8	33	3.0	5.0
3	朱春燕	西安工业大学北方信息工程学院	18	60	3.0	7.0