干涉空间相位光刻对准方法研究

• 作者: 周绍林 徐文祥 胡松 马平
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 干涉空间相位对准 莫尔条纹 补偿光路 CCD细分 曲线拟合
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 634-637,642
• 分类号: TN305.7|O436.1
• 字数: 2981字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.10.010

摘要

介绍了一种适合高分辨力接近/接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法.简要阐述了该对准方法的基本原理,探讨了应用该对准方法的光学结构设计,提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计,采用单色非曝光光源远心照明方式并外加补偿光路的结构设计.在软件处理方面,提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法,实现光刻对准精度的进一步提高.该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷,具有纳米级对准精度,能够满足纳米光刻的对准需求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	马平	中国科学院光电技术研究所	45	544	12.0	21.0
3	徐文祥	中国科学院光电技术研究所	8	42	3.0	6.0
4	周绍林	中国科学院光电技术研究所	11	55	5.0	7.0